用于产线计量的原子力显微镜

光掩模修复

光掩模修复已成为半导体行业中解决EUV光刻过程中积累的外来物缺陷的重要技术。这些缺陷阻碍并影响了精确的印刷过程，光掩模的再利用需要修复。然而，目前主要的掩模修复系统主要基于电子束或激光，可能会损坏样品的表面和图案。这个问题在应用微细图案的EUV掩模上尤为明显。此外，这些系统通常缺乏自动化，难以无缝集成到在线过程中。Park Systems的先进AFM技术满足了工业需求。我们提供从自动缺陷检查到修复和无损修复验证的全方位解决方案，以前所未有的修复效率加速了吞吐量。